Поиск

Влияние глубоких уровней дислокаций в гетероэпитаксиальных InGaAs/GaAs и GaAsSb/GaAs p-i-n-структурах на время релаксации неравновесных носителей

Авторы: Соболев, М. М. Солдатенков, Ф. Ю.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/687439503
Дата корректировки 11:29:51 13 октября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.02.45440.8680
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Соболев, М. М.
Влияние глубоких уровней дислокаций в гетероэпитаксиальных InGaAs/GaAs и GaAsSb/GaAs p-i-n-структурах на время релаксации неравновесных носителей
Электронный ресурс
Effect of dislocation deep levels in heteroepitaxial InGaAs/GaAs and GaAsSb/GaAs p-i-n structures on the relaxation time of nonequilibrium carriers
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 26 назв.
Аннотация Представлены результаты экспериментальных исследований вольт-фарадных характеристик, спектров нестационарной спектроскопии глубоких уровней p{+}-p{0}-i-n{0}-гомоструктур на основе нелегированных бездислокационных слоев GaAs, и гетероструктур InGaAs/GaAs и GaAsSb/GaAs с однородными сетками дислокаций несоответствия, выращенных методом жидкофазной эпитаксии. Для структуры на основе GaAs в эпитаксиальных p{0}- и n{0}-слоях были обнаружены дефекты акцепторного типа с глубокими уровнями, идентифицируемые как HL2 и HL5. В InGaAs/GaAs и GaAsSb/GaAs гетероструктурах были выявлены электронные и дырочные глубокие уровни дислокаций, обозначаемые соответственно как ED1 и HD3.
Ключевые слова гетероэпитаксиальные структуры
дислокации несоответствия
нелегированные бездислокационные слои
гетероструктуры
жидкофазная эпитаксия
арсенид галлия
Солдатенков, Ф. Ю.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 2. - С. 177-183
Имя макрообъекта Соболев_влияние
Тип документа b