Поиск

Незаполненные электронные состояния и формирование интерфейса между пленками диметил замещенных тиофен-фенилен соолигомеров и поверхностью окисленного кремния

Авторы: Комолов, А. С. Лазнева, Э. Ф. Герасимова, Н. Б. Панина, Ю. А. Зашихин, Г. Д. Пшеничнюк, С. А. Борщев, О. В. Пономаренко, С. А. Handke, B.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/684338300
Дата корректировки 14:37:55 7 сентября 2021 г.
DOI 10.21883/FTT.2018.05.45805.298
Служба первич. каталог. Войтик
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 539.21
Комолов, А. С.
Заглавие Незаполненные электронные состояния и формирование интерфейса между пленками диметил замещенных тиофен-фенилен соолигомеров и поверхностью окисленного кремния
Физич. носитель Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 39 назв.
Аннотация Приведены результаты исследования незаполненных электронных состояний и пограничного потенциального барьера при осаждении сверхтонких пленок диметил замещенных тиофен-фенилен соолигомеров вида СH[3]-фенилен-тиофен-тиофен-фенилен-СH[3] (СH[3]-PTTP-CH[3]) на поверхность окисленного кремния. Измерения электронных характеристик проводились в энергетическом диапазоне от 5 до 20 eV выше уровния Ферми методом спектроскопии полного тока (СПТ). Диагностика структуры поверхности пленок СH[3]-PTTP-СH[3] выполнялась методом атомной силовой микроскопии (AFM) и диагностика их атомного состава - методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS). Проведен анализ изменения интенсивностей максимумов, измеряемых СПТ, исходящих от осаждаемой пленки СH3-PTTP-CH[3] и от подложки, в процессе увеличения толщины органического покрытия до 6 nm. Формирование пограничного потенциального барьера в исследованной структуре n-Si/SiO[2]/СH[3]-PTTP-CH[3] сопровождалось снижением работы выхода поверхности от 4.2 ± 0.1 до 4.0 ± 0.1 eV при увеличении толщины органического покрытия до 3 nm. Соотношение концентраций атомов C : S в исследованных пленках СH[3]-PTTP-CH[3] хорошо соответствует химической формуле молекул СH[3]-PTTP-СH[3]. Шероховатость поверхности покрытия СH[3]-PTTP-СH[3] не превышала 10 nm на участках площадью порядка 10 · 10 мю m при общей толщине слоя СH[3]-PTTP-СH[3] около 100 nm.
Ключевые слова пленки
тиофен-фенилен соолигомеры
диметил замещенные тиофен-фенилен соолигомеры
окисленный кремний
осаждение пленок
электронные состояния
потенциальный барьер
Другие авторы Лазнева, Э. Ф.
Герасимова, Н. Б.
Панина, Ю. А.
Зашихин, Г. Д.
Пшеничнюк, С. А.
Борщев, О. В.
Пономаренко, С. А.
Handke, B.
Название источника Физика твердого тела
Место и дата издания 2018
Прочая информация Т. 60, вып. 5. - С. 1012-1017
Имя макрообъекта Комолов_незаполненные электронные состояния
Тип документа b