Индекс УДК | 539.21 |
Формирование нанокристаллов GaN на поверхности графеноподобных g-AlN и g-Si[3]N[3] Электронный ресурс |
|
Аннотация | В данной работе изучен процесс формирования нанокристаллов GaN на графеноподобной модификации AlN (g-AlN) и графеноподобном нитриде кремния (g-Si[3]N[3]) методом молекулярно-лучевой эпитаксии из аммиака. Обнаружено, что рост GaN на поверхности g-Si[3]N[3] приводит к формированию разориентированных нанокристаллов. При росте GaN на поверхности g-AlN наблюдался эпитаксиальный рост одинаково ориентированных квантовых точек GaN графитоподобной модификации. Рассчитаны параметры решетки и энергетическая структура двух графитоподобных модификаций GaN с чередованием слоев AB (структура графита) и AA{+} (структура гексагонального нитрида бора). |
Ключевые слова | нанокристаллы |
Другие авторы | Малин, Т. В. |
Название источника | Физика твердого тела |
Место и дата издания | 2019 |
Прочая информация | Т. 61, вып. 12. - С. 2327-2332 |
Имя макрообъекта | Милахин_формирование |