Индекс УДК | 621.315.592 |
Стимулированное излучение лазерных структур InGaAs/GaAs/AlGaAs, выращенных методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на неотклоненной и отклоненной подложках Ge/Si(001) Электронный ресурс |
|
Аннотация | Методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений получены лазерные структуры GaAs/AlGaAs с квантовыми ямами InGaAs на неотклоненной и отклоненной на 4° к оси [011] подложках Si(001) с релаксированным буфером Ge, излучающие в области прозрачности объемного кремния (длина волны больше 1100 нм при комнатной температуре). Пороговые плотности мощности наблюдения стимулированного излучения для структур, выращенных на неотклоненной и отклоненной подложках, составили 45 и 37кВт/см{2} соответственно. |
Ключевые слова | лазерные структуры |
Название источника | Физика и техника полупроводников |
Место и дата издания | 2017 |
Прочая информация | Т. 51, вып. 5. - С. 695-698 |
Имя макрообъекта | Алешкин_стимулированное |