Индекс УДК | 621.315.592 |
AlN/GaN-гетероструктуры для нормально закрытых транзисторов Электронный ресурс |
|
Аннотация | Рассчитана конструкция AlN/GaN гетероструктур со сверхтонким AlN-барьером для нормально закрытых транзисторов. Развита технология молекулярно-лучевой эпитаксии in situ пассивированных гетероструктур SiN/AlN/GaN с двумерным электронным газом. Продемонстрированы нормально закрытые транзисторы с максимальной плотностью тока около 1А/мм, напряжением насыщения 1 В, крутизной до 350 мС/мм, пробивным напряжением более 60 В. В транзисторах практически отсутствуют эффекты затворного и стокового коллапса тока. |
Ключевые слова | гетероструктуры |
Название источника | Физика и техника полупроводников |
Место и дата издания | 2017 |
Прочая информация | Т. 51, вып. 3. - С. 395-402 |
Имя макрообъекта | Журавлев_AlN |