Поиск

Разрывы валентной зоны в напряженных слоях SiGeSn/Si с различным содержанием олова

Авторы: Блошкин, А. А. Якимов, А. И. Тимофеев, В. А. Туктамышев, А. Р. Никифоров, А. И. Мурашов, В. В.
Подробная информация
Индекс УДК 621.315.592
Разрывы валентной зоны в напряженных слоях SiGeSn/Si с различным содержанием олова
Электронный ресурс
Аннотация Методом спектроскопии адмиттанса исследованы состояния дырок в квантовых ямах Si[0.7-y]Ge[0.3]Sn[y]/Si в диапазоне содержания олова y = 0.04-0.1. Установлено, что энергия связи дырки растет с увеличением содержания олова. В рамках 6-зонного kp-метода определены энергии размерного квантования дырок в структурах, содержащих псевдоморфный слой Si[0.7-y]Ge[0.3]Sn[y] в матрице Si. Комбинацией результатов математического моделирования и экспериментальных данных определена величина разрыва валентной зоны на гетерогранице Si/Si[0.7-y]Ge[0.3]Sn[y].
Ключевые слова кремний
Физика и техника полупроводников
2017
Т. 51, вып. 3. - С. 342-347
Имя макрообъекта Блошкин_разрывы