| Индекс УДК |
546 539.2 |
|
Эпитаксиальные пленки Fe[3]O[4], выращенные методом импульсного лазерного осаждения на R-плоскости сапфира И. В. Маликов, В. А. Березин, Л. А. Фомин, А. В. Черных |
|
| Аннотация | Исследовано влияние температуры и давления молекулярного кислорода на свойства тонких (до 180 нм) эпитаксиальных пленок магнетита Fe[3]O[4] (001), выращенных методом импульсного лазерного осаждения на R-плоскости монокристаллического сапфира Al[2]O[3] (1012) с подслоем MgO и без него. Изучены их электрические, морфологические и структурные характеристики в зависимости от условий роста. Обнаружено плато устойчивого роста Fe[3]O[4] в диапазоне давлений (4-9) · 10{-5} мм рт. ст. Установлено, что свойства эпитаксиальных пленок Fe[3]O[4] на подслое MgO (5 нм) соответствуют выращиваемым на монокристаллических подложках MgO, при этом они превосходят по качеству пленки, выращенные на чистой R-плоскости сапфира. Наилучшие электрические характеристики и соответствующая им кристаллическая структура пленок достигаются при повышенных температурах роста, а минимальная шероховатость и максимальная однородность поверхности, наоборот, при пониженных. Совместить эти условия позволяет отжиг при высоких температурах в высоком вакууме пленок магнетита, предварительно выращенных при пониженной температуре. |
| Название источника | Неорганические материалы |
| Место и дата издания | 2020 |
| Прочая информация | Т. 56, № 2. - С. 173-180 |
|
https://sciencejournals.ru/list-issues/neorgmat/ https://www.elibrary.ru/item.asp?id=42365989 |
