Поиск

Квантовые точки ”ядро–оболочка“ Ge/Si в матрице оксида алюминия: влияние температуры отжига на оптические свойства

Авторы: Сресели, О. М. Лихачёв, А. И. Неведомский, В. Н. Лихачев, А. И. Яссиевич, И. Н. Ершов, А. В. Нежданов, А. В. Машин, А. И. Андреев, Б. А. Яблонский, А. Н.
Подробная информация
Индекс УДК 621.315.592
Автор Сресели, О. М.
Заглавие Квантовые точки ”ядро–оболочка“ Ge/Si в матрице оксида алюминия: влияние температуры отжига на оптические свойства
Физич. носитель Электронный ресурс
Аннотация Структуры с наночастицами (квантовыми точками) Ge/Si в матрице оксида алюминия интересны для исследователей благодаря сочетанию двух основных полупроводников, а также использованию матрицы с высокой диэлектрической проницаемостью и сильной связью кислорода с металлом. В работе изготовлены многослойные нанопериодические структуры в последовательности подложка/Al[2]O[3]/Ge/Si/Al[2]O[3] . . .Al[2]O[3] (период — Al[2]O[3]/Ge/Si, число периодов - до 20), которые затем отжигались при разных температурах. Показано, что после отжига в структурах наблюдаются кристаллические частицы и Ge, и Si, размеры и количество которых определяются толщиной напыленных слоев и температурой отжига. Полученные различными оптическими методиками результаты свидетельствуют о квантово-размерном эффекте в структурах, что подтверждено микроскопией высокого разрешения.
Ключевые слова квантовые точки
Другие авторы Берт, Н. А.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2020
Прочая информация Т. 54, вып. 2. - С. 129-137
Имя макрообъекта Сресели_квантовые