Поиск

Cиловой МДП-транзистор на 4H-SiC с эпитаксиальным заглубленным каналом

Авторы: Михайлов, А. И. Афанасьев, А. В. Ильин, В. А. Лучинин, В. В. Решанов, С. А. Schoner, A.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/675510634
Дата корректировки 9:54:12 28 мая 2021 г.
10.21883/FTP.2020.01.48779.9253
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Михайлов, А. И.
Cиловой МДП-транзистор на 4H-SiC с эпитаксиальным заглубленным каналом
Электронный ресурс
4H-SiC power MOSFET with epitaxial buried channel
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 20 назв.
Аннотация Для уменьшения сопротивления силового МДП-транзистора на 4H-SiC во включенном состоянии предложен способ формирования заглубленного канала путем эпитаксиального наращивания слоев на поверхности высоколегированной p-области. Рассмотрены особенности транспорта носителей заряда в канале такого транзистора в сравнении с изготовленным по обычной технологии. Достигнуто уменьшение сопротивления силового МДП-транзистора более чем в 3 раза.
Ключевые слова эпитаксия
канал транзистора
МДП-транзисторы
MOSFET
эпитаксиальные заглубленные каналы
диоды Шоттки
Афанасьев, А. В.
Ильин, В. А.
Лучинин, В. В.
Решанов, С. А.
Schoner, A.
Физика и техника полупроводников
2020
Т. 54, вып. 1. - С. 79-84
Имя макрообъекта Михайлов_силовой
Тип документа b