| Индекс УДК | 621.315.592 |
|
Локально-эмиссионная инжекция электронов в микрозерна поверхности полупроводников А{III}В{V} Электронный ресурс |
|
| Аннотация | На туннельном микроскопе в режиме полевой эмиссии на выбираемых локально микрозернах поверхности антимонида и арсенида индия, арсенида галлия исследованы характеристики инжекции электронов в полупроводник из нанозазора микрозонд-микрозерно. Методом сопоставления экспериментальных вольтамперных характеристик и рассчитанных формул токопереноса установлены механизмы тока и определены параметры. Обнаружен эффект ограничения тока в микрозернах антимонида и арсенида индия, проявляющийся при уровнях инжекции более некоторого критического значения - 6 · 10{16} см{-3} для антимонида, 4 · 10{17} см{-3} для арсенида индия. Предложена физическая модель - локализация электронов в приповерхностной зоне микрозерна за счет их кулоновского взаимодействия |
| Ключевые слова | локально-эмиссионная инжекция |
|
Физика и техника полупроводников 2016 Т. 50, вып. 6. - С. 772-776 |
|
| Имя макрообъекта | Жуков_локально |
