Индекс УДК | 621.315.592 |
Лазерное отделение пленок n-GaN от подложек, основанное на эффекте сильного поглощения ИК излучения свободными носителями заряда в n{+}-GaN подложках Электронный ресурс |
|
Аннотация | Рассмотрены физические и технологические основы метода отделения слабо и умеренно легированных пленок n-GaN от сильно легированных подложек n{+}-GaN. В основе метода отделения лежит эффект поглощения лазерного ИК излучения на свободных носителях заряда, которое значительно сильнее в n{+}-GaN пленках. |
Ключевые слова | нитрид галлия |
Название источника | Физика и техника полупроводников |
Место и дата издания | 2016 |
Прочая информация | Т. 50, вып. 5. - С. 711-716 |
Имя макрообъекта | Вирко_лазерное |