Индекс УДК |
535.33 539.2 |
Механизм адгезионного взаимодействия пленок диазохинонноволачного фоторезиста с монокристаллическим кремнием С. Д. Бринкевич, Е. В. Гринюк, Д. И. Бринкевич [и др.] |
|
Аннотация | Методом ИК-Фурье-спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения исследованы радиационно-индуцированные процессы, протекающие при имплантации ионов бора и фосфора в пленки позитивного диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на кремнии. Установлено, что усиление адгезии резиста к монокристаллическому кремнию обусловлено образованием сложноэфирных сшивок между гидроксильными группами на поверхности оксидного слоя кремниевой пластины и карбоксильной группой 1-Н-инден-3-карбоновой кислоты. |
Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
Место и дата издания | 2020 |
Прочая информация | Т. 87, № 4. - С. 589-594 |