Поиск

Механизм адгезионного взаимодействия пленок диазохинонноволачного фоторезиста с монокристаллическим кремнием

Авторы: Бринкевич, С. Д. Гринюк, Е. В. Бринкевич, Д. И. Свердлов, Р. Л. Просолович, В. С. Петлицкий, А. Н.
Подробная информация
Индекс УДК 535.33
539.2
Механизм адгезионного взаимодействия пленок диазохинонноволачного фоторезиста с монокристаллическим кремнием
С. Д. Бринкевич, Е. В. Гринюк, Д. И. Бринкевич [и др.]
Аннотация Методом ИК-Фурье-спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения исследованы радиационно-индуцированные процессы, протекающие при имплантации ионов бора и фосфора в пленки позитивного диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на кремнии. Установлено, что усиление адгезии резиста к монокристаллическому кремнию обусловлено образованием сложноэфирных сшивок между гидроксильными группами на поверхности оксидного слоя кремниевой пластины и карбоксильной группой 1-Н-инден-3-карбоновой кислоты.
Название источника Журнал прикладной спектроскопии
Место и дата издания 2020
Прочая информация Т. 87, № 4. - С. 589-594