Поиск

Оценка стойкости к диффузионной деструкции наноразмерных AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур методом ИК-спектральной эллипсометрии

Авторы: Макеев, М. О. Иванов, Ю. А. Мешков, С. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/669311575
Дата корректировки 15:55:48 17 марта 2021 г.
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592:539.2
Макеев, М. О.
Оценка стойкости к диффузионной деструкции наноразмерных AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур методом ИК-спектральной эллипсометрии
Электронный ресурс
Assessment of resistance of AlAs/GaAs nanoscale heterostructures of resonant-tunneling diodes to diffusion destruction by means of IR-spectroscopic ellipsometry
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 37 назв.
Аннотация Разработана методика оценки качества наноразмерных AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур с точки зрения их стойкости к диффузионной деструкции. Методом ИК-спектральной эллипсометрии выявлено диффузионное размытие слоев AlAs/GaAs гетероструктуры и определены коэффициенты диффузии Al и Si в GaAs.
диффузионная деструкция
резонансно-туннельные гетероструктуры
гетероструктуры
ИК-спектральная эллипсометрия
ИК-спектрофотометрия
диффузионная деструкция
алюминий
арсенид галлия
арсенидгаллиевые структуры
резонансно-туннельные диоды
кинетика диффузионных процессов
Иванов, Ю. А.
Мешков, С. А.
Физика и техника полупроводников
2016
Т. 50, вып. 1. - С. 83-88
Имя макрообъекта Макеев_оценка
Тип документа b