| Индекс УДК |
539.2 535.33 |
|
Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами кислорода и гелия, методом спектральной эллипсометрии [Текст] В. В. Базаров [и др.] |
|
| Аннотация | Представлены результаты исследований методом спектральной эллипсометрии поверхности кремния, имплантированного ионами кислорода в интервале доз 7. 5 * 10{14}-3. 7 * 1016 ион/см{2} и ионами гелия в интервале доз 6 * 10{16}-6 * 10{17} ион/см{2} с энергией 40 кэВ при постоянной плотности тока в ионном пучке 2 мкА/см{2} и комнатной температуре облучаемых подложек. Получены зависимости толщины имплантированного слоя в облученных пластинах и степени его аморфизации от дозы ионной имплантации. |
| Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 86, № 1. - С. 151-154 |
