| Индекс УДК | 544 |
|
Plasma parameters, densities of active species and etching kinetics in C[4]F[8]+Ar gas mixture [Текст] A. M. Efremov, D. B. Murin, K. H. Kwon |
|
| Аннотация | В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO[2] в плазме смеси C[4]F[8] + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C[4]F[8]/Ar варьировалось в диапазоне 0-75% Ar. |
| Название источника | Известия вузов. Химия и химическая технология |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 62, вып. 2. - С. 31-37 |
