Поиск

Фотонный отжиг пленок оксида цинка, синтезированных с использованием вакуум-плазменных технологий

Авторы: Зайцев, С. В. Колесник, В. В. Ващилин, В. С. Лимаренко, М. В. Прохоренков, Д. С. Евтушенко, Е. И.
Подробная информация
Индекс УДК 667
Фотонный отжиг пленок оксида цинка, синтезированных с использованием вакуум-плазменных технологий
[Текст]
С. В. Зайцев [и др.]
Аннотация Рассмотрена возможность получения пленок оксида цинка (ZnO) на подложках из сапфира с-ориентации методом дуального магнетронного распыления, в газовой среде Аr-O[2] с разным разрядным током и последующем отжигом в вакууме. Приведены результаты исследования структуры и морфологии полученных пленок ZnO на сапфире. Установлено, что синтезированные покрытия ZnO имеют поликристаллическую гексагональную структуру типа вюрцит с ориентацией зерен в плоскости (002) и (103). Установлено, что фотонный отжиг увеличивает степень ориентирования зерна, повышая качество кристаллов синтезированных пленок ZnO.
Название источника Огнеупоры и техническая керамика
Место и дата издания 2017
Прочая информация № 4/5. - С. 17-21