| Индекс УДК |
539.19 543.4/.5 |
|
Учет взаимного влияния элементов при рентгенофлуоресцентном анализе тонких двухслойных Ti/V-систем [Текст] Н. И. Машин [и др.] |
|
| Аннотация | Предложен новый способ определения толщины слоев при рентгенофлуоресцентном анализе двухслойных систем Ti/V с использованием простых в изготовлении унифицированных пленочных слоев, получаемых напылением титана на подложку из пленки полимера. Рассчитаны поправочные коэффициенты, учитывающие уровень ослабления интенсивности первичного излучения рентгеновской трубки и аналитической линии элемента нижнего слоя в верхнем слое и усиления интенсивности флуоресценции верхнего слоя излучением атомов нижнего. |
| Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
| Место и дата издания | 2018 |
| Прочая информация | Т. 85, № 1. - С. 100-107 |
