Индекс УДК | 541.6 |
Высокотермостойкие полифункциональные материалы для микроэлектроники, гидродинамические, оптические и конформационные свойства Si-содержащего поли(гидроксиамида) [Текст] Л. И. Рудая [и др.] |
|
Аннотация | Установлено, что процесс формирования, свойства микрорельефного защитного слоя, его качество во многом определяются химической структурой, молекулярно-массовым распределением, термодинамическими и конформационными свойствами молекулярных цепей полимерного связующего фоторезиста. |
Название источника | Журнал прикладной химии |
Место и дата издания | 2017 |
Прочая информация | Т. 90, вып. 11. - С. 1463-1469 |