Поиск

Химическое взаимодействие поверхности кристаллов InAs, InSb, GaAs и GaSb с травильными растворами (NH[4])[2]Cr[2]O[7]-HBr-лимонная кислота

Авторы: Левченко, И. В. Стратийчук, И. Б. Томашик, В. Н. Маланич, Г. П. Станецкая, А. С. Корчевой, А. А.
Краткая информация
Маркер записи n 22 3 4500
Контрольный номер noma17_to53_no11_ss1137_ad1
Дата корректировки 14:39:22 30 января 2018 г.
Кодируемые данные 180120s2017||||RU|||||||||||#||||# rus0|
Системный контрольный номер RUMARS-noma17_to53_no11_ss1137_ad1
AR-MARS
Служба первич. каталог. Научная библиотека Дагестанского государственного университета
МАРС
Код языка каталог. rus
Код языка издания rus
rus
Индекс УДК 621.79
546
Индекс ББК 34.64
24.12
Таблицы для массовых библиотек
Таблицы для массовых библиотек
Левченко, И. В.
070
z01710
Химическое взаимодействие поверхности кристаллов InAs, InSb, GaAs и GaSb с травильными растворами (NH[4])[2]Cr[2]O[7]-HBr-лимонная кислота
[Текст]
И. В. Левченко [и др.]
Иллюстрации/ тип воспроизводства 2 рис.
Библиография Библиогр.: с. 1142 (11 назв. )
Аннотация Исследованы процессы химического растворения кристаллов InAs, InSb, GaAs и GaSb растворами (NH[4]) [2]Cr[2]O[7]-HBr-C[6]H[8]O[7]. Изучены зависимости скорости их растворения от состава травителя и кинетические особенности химического взаимодействия исследуемых полупроводников с растворами. Показано, что лимитирующей стадией процесса растворения является диффузия. Установлено, что лимонная кислота способствует уменьшению скорости травления и улучшает полирующие свойства травильного раствора.
Машиностроение
AR-MARS
Соединения деталей машин
AR-MARS
Химия
AR-MARS
Химические элементы и их соединения
AR-MARS
Ключевые слова полупроводники
арсенид индия
арсенид галлия
антимонид галлия
антимонид индия
химико-динамическое полирование
скорость растворения
химическое взаимодействие
кристаллы
травильные растворы
лимонная кислота
Стратийчук, И. Б.
070
z02710
Томашик, В. Н.
070
z03710
Маланич, Г. П.
070
z04710
Станецкая, А. С.
070
z05710
Корчевой, А. А.
070
z06710
Национальная академия наук Украины
Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева
z01700
Вторичная ответственность
Национальная академия наук Украины
Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева
z02700
Вторичная ответственность
Национальная академия наук Украины
Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева
z03700
Вторичная ответственность
Национальная академия наук Украины
Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева
z04700
Вторичная ответственность
Национальная академия наук Украины
Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева
z05700
Вторичная ответственность
Национальная академия наук Украины
Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева
z06700
Вторичная ответственность
ISSN 0002-337X
Название источника Неорганические материалы
Место и дата издания 2017
Прочая информация Т. 53, № 11. - С. 1137-1142
RU
36713090
20180120
RCR
RU
36713090
20180120
RU
AR-MARS
20180120
RCR
RU
AR-MARS
20180120
Тип документа b
code
year
to
no
ss
ad
noma
2017
53
11
1137
1
13607