| Индекс УДК | 621.79 |
|
Химическое газофазное осаждение тантала на подложки из различных материалов [Текст] О. Ю. Гончаров [и др.] |
|
| Аннотация | Впервые для получения покрытий из тантала использовано безводородное химическое газофазное осаждение (CVD) восстановлением пентабромида тантала парами кадмия, позволяющее существенно (более чем на 200 К) снизить температуру процесса осаждения. Показано, что в зависимости от материала подложки происходит осаждение разных модификаций (альфа, бета) тантала или их смеси. |
| Название источника | Неорганические материалы |
| Место и дата издания | 2017 |
| Прочая информация | Т. 53, № 10. - С. 1087-1092 |
