| Индекс УДК |
535.2/.3 539.2 |
|
Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, по спектрам оптического отражения [Текст] А. Л. Степанов [и др.] |
|
| Аннотация | Проведены исследования оптического отражения поверхности Si, имплантированного ионами Ag{+} при низкой энергии 30 кэВ в широком интервале доз 5. 0 · 10{14}-1. 5 · 10{17} ион/см{2}, параллельно с электронными микроскопическими наблюдениями образцов. Установлено, что с ростом ионной дозы облучения монотонно снижается интенсивность отражения в УФ области спектра Si. Это вызвано аморфизацией и макроструктурированием его приповерхностного слоя. В длинноволновой области отражения регистрируется селективная полоса с максимумом вблизи 830 нм, обусловленная проявлением плазмонного резонанса ионно-синтезированных наночастиц Ag. |
| Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
| Место и дата издания | 2017 |
| Прочая информация | Т. 84, № 5. - С. 726-730 |
