Поиск

Молекулярное наслаивание оксидов кремния и алюминия на бинарных полупроводниках

Авторы: Ежовский, Ю. К.
Краткая информация
Маркер записи n 22 3 4500
Контрольный номер zfch17_to91_no4_ss691_ad1
Дата корректировки 10:02:27 1 июня 2017 г.
Кодируемые данные 170518s2017||||RU|||||||||||#||||# rus0|
Системный контрольный номер RUMARS-zfch17_to91_no4_ss691_ad1
AR-MARS
Служба первич. каталог. Казанский национальный исследовательский технологический университет, Учебно-научный информационный центр
БГТУ
Код языка каталог. rus
Код языка издания rus
rus
Индекс УДК 544.72
Индекс ББК 24.58
Таблицы для массовых библиотек
Ежовский, Ю. К.
z01710
070
Молекулярное наслаивание оксидов кремния и алюминия на бинарных полупроводниках
[Текст]
Ежовский Ю. К.
Библиография Библиогр.: c. 695 (16 назв. )
Аннотация Рассмотрен процесс формирования нанослоев оксидов кремния и алюминия, полученных методом молекулярного наслаивания (атомно-слоевого осаждения – ALD-технология) на поверхности GaAs, InAs и InSb. Определены условия слоевого механизма роста поверхностных наноструктур и проведена оценка их некоторых диэлектрических характеристик.
Химия
AR-MARS
Физическая химия поверхностных явлений
AR-MARS
Ключевые слова оксиды алюминия
атомно-слоевое осаждение
бинарные полупроводники
молекулярное наслаивание
нанослои
оксиды кремния
поверхностные наноструктуры
Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)
z01100
Вторичная ответственность
ISSN 0044-4537
Название источника Журнал физической химии
Место и дата издания 2017
Прочая информация Т. 91, № 4. - С. 691-695
RU
42013534
20170518
RCR
RU
42013534
20170518
RU
AR-MARS
20170518
RCR
RU
AR-MARS
20170518
http://dx.doi.org/10.7868/S0044453717040082
Тип документа b
code
year
to
no
ss
ad
zfch
2017
91
4
691
1
12811
Физическая химия нанокластеров и наноматериалов