Индекс УДК | 546 |
Неорганические фоторезисты на основе смешанных оксидов молибдена и ванадия А. А. Барабошина [и др.] |
|
Аннотация | Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. |
Ключевые слова |
неорганический фоторезист смешанные оксиды молибден молибден-ванадиевый оксид ванадий фотолитография фоточувствительные системы фоторезистные пленки |
Место и дата издания | 2015 |
Прочая информация | Т. 59, № 4. - С. 68-71 |
Название источника | Доклады Национальной академии наук Беларуси |