Поиск

Определение стехиометрии и толщины ионно-синтезированных оксидных наноструктур вольфрама методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии

Авторы: Лазов, М. А. Алов, Н. В. Ищенко, А. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/454152388
Дата корректировки 21:38:22 13 октября 2015 г.
Служба первич. каталог. Боровик
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 537.533:543.42
Лазов, М. А.
Определение стехиометрии и толщины ионно-синтезированных оксидных наноструктур вольфрама методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
Текст
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 21 назв.
рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
оксидные наноструктуры
вольфрам
тонкие пленки
ионно-лучевая обработка
Алов, Н. В.
Ищенко, А. А.
Химия и химическая технология. Изв. вузов
2014
Т. 57, № 2. - С. 25-29
Тип документа b