| Индекс УДК | 537.533:543.42 |
|
Определение стехиометрии и толщины ионно-синтезированных оксидных наноструктур вольфрама методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии Текст |
|
|
Химия и химическая технология. Изв. вузов 2014 Т. 57, № 2. - С. 25-29 |
