Зависимость кинетики кристаллизации тонких пленок Cr[0.26]Si[0.74] от толщины
Новиков, С. В., Кузнецова, В. С., Бурков, А. Т., Шуманн, И.
Зависимость кинетики кристаллизации тонких пленок Cr[0.26]Si[0.74] от толщины, [Электронный ресурс]
ил.
Физика и техника полупроводников, 2020, Т. 54, вып. 4. - С. 355-357
Новиков_зависимость
