Изменение структуры и свойств приповерхностного слоя Si, имплантированного Zn, в зависимости от флюенса облучения ионами {132}Xe{26+} с энергией 167МэВ
Привезенцев, В. В., Куликаускас, В. С., Скуратов, В. А., Зилова, О. С., Бурмистров, А. А., Пресняков, М. Ю., Горячев, А. В.
Изменение структуры и свойств приповерхностного слоя Si, имплантированного Zn, в зависимости от флюенса облучения ионами {132}Xe{26+} с энергией 167МэВ, [Электронный ресурс]
ил.
Физика и техника полупроводников, 2019, Т. 53, вып. 3. - С. 332-339
Привезенцев_изменение
