Изменение характера биаксиальных напряжений при возрастании x от 0 до 0.7 в слоях Al[x]Ga[1-x]N : Si, полученных методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии
Ратников, В. В., Журавлёв, К. С., Щеглов, М. П., Бер, Б. Я., Казанцев, Д. Ю., Осинных, И. В., Малин, Т. В., Журавлев, К. С.
Изменение характера биаксиальных напряжений при возрастании x от 0 до 0.7 в слоях Al[x]Ga[1-x]N : Si, полученных методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии, [Электронный ресурс]
ил.
// Физика и техника полупроводников .-
2018 .-
Т. 52, вып. 2. - С. 233-237 .-
Ратников_изменение
