Plasma parameters, densities of active species and etching kinetics in C[4]F[8]+Ar gas mixture
Efremov, A. M., Murin, D. B., Kwon, K. H.
Plasma parameters, densities of active species and etching kinetics in C[4]F[8]+Ar gas mixture, [[Текст]], A. M. Efremov, D. B. Murin, K. H. Kwon
4 рис.
// Известия вузов. Химия и химическая технология .-
2019 .-
Т. 62, вып. 2. - С. 31-37 .-
