Поиск

Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si

Авторы: Тульев, В. В.
Местонахождение Подробная информация
Индекс УДК 539.1.06:539.23.234
Автор Тульев, В. В.
Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si
Текст
Место издания Минск
Издательство БГТУ
Дата издания оригинала 2020
Ключевые слова приповерхностные слои
Информационные технологии
Минск : БГТУ, 2020
C. 238-240
RU/IS/BASE/638440206