| Маркер записи | n |
| Контрольный номер | RU/IS/BASE/615564461 |
| Дата корректировки | 14:07:41 4 июля 2019 г. |
| Код языка каталог. | rus |
| Правила каталог. | PSBO |
| Служба первич. каталог. | Данильченко |
| Код языка издания | rus |
| Индекс УДК | 763 |
| Автор | Родионов, И. А. |
|
Применение проекционной литографии I-LINE диапазона при производстве КМОП СБИС с проектными нормами 250 и 180 нм Текст |
|
| Место издания | Москва |
| Издательство | [РОСНАНО] |
| Дата издания оригинала | 2008 |
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил |
| Библиография | Библиогр.:5 назв |
| Ключевые слова | литография проекционная |
|
полупроводниковое производство субмикронный уровень |
|
| Организация/ юрисдикция | московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана |
|
Rusnanotech'08 Москва : [РОСНАНО], 2008 С.365-367 RU/IS/BASE/605185555 |
|
| Тип документа | b |
