Поиск

Применение проекционной литографии I-LINE диапазона при производстве КМОП СБИС с проектными нормами 250 и 180 нм

Авторы: Родионов, И. А.
Местонахождение Подробная информация
Индекс УДК 763
Автор Родионов, И. А.
Применение проекционной литографии I-LINE диапазона при производстве КМОП СБИС с проектными нормами 250 и 180 нм
Текст
Место издания Москва
Издательство [РОСНАНО]
Дата издания оригинала 2008
Ключевые слова литография проекционная
Rusnanotech'08
Москва : [РОСНАНО], 2008
С.365-367
RU/IS/BASE/605185555