Поиск

Маскирующие золь-гель покрытия для фотолитографии микронного разрешения

Авторы: Хорошко, Л. С. Ореховская, Т. И. Меледина, М. В. Гапоненко, Н. В.
Местонахождение Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/609350353
Дата корректировки 15:59:13 23 апреля 2019 г.
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Служба первич. каталог. Яновская
Код языка издания rus
Индекс УДК 537.876.23+543.42:621.373
Автор Хорошко, Л. С.
Маскирующие золь-гель покрытия для фотолитографии микронного разрешения
Текст
Место издания Минск
Издательство ФТИ НАН Беларуси
Дата издания оригинала 2015
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 3 назв.
Ключевые слова золь-гель покрытия
формирование микроструктур
пленочные микроструктуры
электрохимическое анодирование
золь-гель синтез
фотолитография
химическое травление
Другие авторы Ореховская, Т. И.
Меледина, М. В.
Гапоненко, Н. В.
Организация/ юрисдикция Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Современные методы и технологии создания и обработки материалов
Минск : ФТИ НАН Беларуси, 2015
Кн. 1. - С. 208-212
RU/IS/BASE/605186298
978-985-6441-44-1 (кн. 1)
Тип документа b