Маскирующие золь-гель покрытия для фотолитографии микронного разрешения
Хорошко, Л. С., Ореховская, Т. И., Меледина, М. В., Гапоненко, Н. В.
Маскирующие золь-гель покрытия для фотолитографии микронного разрешения, [Текст]
Минск :
ФТИ НАН Беларуси ,
2015 .-
ил.
Современные методы и технологии создания и обработки материалов, Минск : ФТИ НАН Беларуси, 2015, Кн. 1. - С. 208-212, RU/IS/BASE/605186298, 978-985-6441-44-1 (кн. 1)