Индекс УДК | 537.5 |
Автор | Волобуев, Влас Сергеевич |
Изучение влияния флюенса имплантированных ионов железа и никеля на электрофизические свойства фоторезиста в СВЧ диапазоне Электронный ресурс БГТУ ; БГУ |
|
Место издания | Минск |
Издательство | БГТУ |
Дата издания оригинала | 2014 |
Ключевые слова |
ионная имплантация СВЧ резанаторы фоторезистивные нанокомпозиты |
Другие авторы | Олешкевич, А. Н. |
Технология органических веществ Минск : БГТУ, 2014 С. 48 RU/IS/BASE/452344778 |