Поиск

Изучение влияния флюенса имплантированных ионов железа и никеля на электрофизические свойства фоторезиста в СВЧ диапазоне

Авторы: Волобуев, Влас Сергеевич Олешкевич, А. Н.
Местонахождение Подробная информация
Индекс УДК 537.5
Автор Волобуев, Влас Сергеевич
Изучение влияния флюенса имплантированных ионов железа и никеля на электрофизические свойства фоторезиста в СВЧ диапазоне
Электронный ресурс
БГТУ ; БГУ
Место издания Минск
Издательство БГТУ
Дата издания оригинала 2014
Ключевые слова ионная имплантация
СВЧ резанаторы
фоторезистивные нанокомпозиты
Другие авторы Олешкевич, А. Н.
Технология органических веществ
Минск : БГТУ, 2014
С. 48
RU/IS/BASE/452344778