Поиск

Электрохимия адатомных слоев металлов на поверхности халькогенов и халькогенидов металлов

Авторы: Осипович,Николай Павлович
Краткая информация
Маркер записи n 22 7 4500
Дата корректировки 8:40:41 15 апреля 2008 г.
б/ц
541.138
541
О-74
266ар
001
2
49-01
Осипович,Николай Павлович
Электрохимия адатомных слоев металлов на поверхности халькогенов и халькогенидов металлов
Автореф.дис...канд.хим.наук:02.00.04
БГУ
Минск
2001
21с
Обнаружены процессы электрохимического формирования адатомных слоев (UPD) металлов на поверхности селена,теллура и халькогенидов металлов и исследованы их закономерности.
сетлен
теллур
потенциальное осаждение
химическое осаждение
адсорбция
адатомы
электрохимия полупроводников
фотоэлектрохимия
электроосаждение
контактное замещение
микроструктура
261
1