| Индекс УДК | 621.3.049.772.1 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии Текст [справочное руководство] |
|
| Место издания | Москва |
| Издательство | Техносфера |
| Дата издания оригинала | 2010 |
| Объем | 527, [1] с. |
| Аннотация | Справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. |
| Ключевые слова | плазмохимические процессы; тонкопленочные покрытия; вакуумные технологии |
| Другие авторы | Сейдман, Лев Александрович |
