Индекс УДК |
547 544.52 |
Особенности фотолиза трихлорбифенилов Т. И. Горбунова, М. Г. Первова, Г. С. Захарова [и др.] |
|
Примечание | Рез. на англ. яз.: с. 1743 |
Аннотация | Исследован фотолитический распад смеси Трихлорбифенил, 2, 4, 5- и 2, 4, 6-трихлорбифенилов под действием ультрафиолетового излучения в присутствии оксида вольфрама как катализатора в среде метанола. Установлена большая скорость фотолиза индивидуальных конгенеров полихлорбифенилов по сравнению с конгенерами из смеси Трихлорбифенил. Рассмотрено влияние особенностей строения полихлораренов на глубину фотораспада и направления образования продуктов фотодеструкции. |
Название источника | Журнал общей химии |
Место и дата издания | 2023 |
Прочая информация | Т. 93, № 11. - С. 1736-1743 |