Индекс УДК | 621.371.8 |
Генерация и тушение в XeCl* эксимерном лазере при накачке смешанным гамма-нейтронным излучением ядерного реактора А. И. Миськевич |
|
Объем | 1 файл (416 Кб) |
Примечание | Загл. с титул. экрана |
Аннотация | Экспериментально обнаружено снижение коэффициента усиления активной среды эксимерного лазера с ядерной накачкой на В-Х- и С-А-переходах молекулы XeCl* (308 nm, 352 nm) при накачке среды Ar-Xe-CCl[4] смешанным гамма-нейтронным излучением ядерного реактора. Эффект обусловлен тушащим действием вторичных электронов, образующихся в активной среде эксимерного лазера под действием мгновенного гамма-излучения. Эффект значительно усиливается при увеличении плотности потока гамма-излучения, и коэффициент потерь может достигать значений ~10{-2}-2*10{-2} сm{-1}. |
Название источника | Оптика и спектроскопия |
Место и дата издания | 2023 |
Прочая информация | Т. 131, № 7. - С. 941-948 |
https://elibrary.ru/item.asp?id=54500827 |