| Индекс УДК | 544.723.21 |
|
Использование эквивалентного напуска реагентов при получении покрытий Ni-Mn-O методом молекулярного наслаивания И. С. Ежов, Д. В. Назаров, П. С. Вишняков [и др.] |
|
| Аннотация | Исследован процесс формирования тонких пленок системы Ni-Mn-O методом молекулярного наслаивания при эквивалентном напуске металлоорганических реагентов. В качестве исходных реагентов использовались бис (циклопентадиенил) никеля (NiCp[2]) и трис (2, 2, 6, 6-тетраметил-3, 5-гептандионато) -марганца (III) [Mn (thd) [3]], для формирования кислородсодержащих структур применялась кислородная плазма. Установлено, что средний прирост за цикл покрытия системы Ni-Mn-O выше, чем значение прироста толщины покрытия за один цикл, рассчитанное исходя из известных приростов толщины покрытия за один цикл NiO и Mn[2]O[3]. Показано, что при эквивалентном напуске содержание никеля в покрытии превышает содержание марганца. |
| Название источника | Журнал прикладной химии |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 95, вып. 3. - С. 323-327 |
