| Индекс УДК |
539.2 546 544 |
|
Атомно-слоевое осаждение и термические превращения алюминий-ванадиевых оксидных тонких пленок А. И. Абдулагатов, А. М. Максумова, Д. К. Палчаев [и др.] |
|
| Аннотация | Методом атомно-слоевого осаждения с использованием триметилалюминия, оксохлорида ванадия и воды получены алюминий-ванадиевые оксидные нанопленки (Al[x]V[y]O[z]). Изучены физико-химические аспекты роста пленок, формирования гетероструктур Al[2]O[3]-V[2]O[5] и AlVO[4] отжигом на воздухе полученных пленок. |
| Название источника | Журнал общей химии |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 92, № 8. - С. 1310-1324 |
