| Индекс УДК | 539.2 |
|
Низкотемпературный лазерный синтез тонких электрохромных пленок WO[3] О. А. Новодворский, Л. С. Паршина, О. Д. Храмова [и др.] |
|
| Аннотация | Методом импульсного лазерного осаждения из металлических мишеней при комнатной температуре на кварцевых и с-сапфировых подложках получены аморфные диэлектрические пленки WO[3] с шероховатостью поверхности 4-5 нм. Исследованы спектры пропускания пленок WO[3] в диапазоне от 400 до 2000 нм в зависимости от типа подложки и давления кислорода в процессе роста. Установлена зависимость параметров полученных пленок от давления кислорода в процессе роста. Пропускание пленок WO[3] увеличивается от 40 до 75% в видимой и УФ-областях и от 10 до 70% в ИК-области при изменении давления кислорода в процессе роста пленок от 20 до 60 мторр. Ширина запрещенной зоны пленок WO[3] меняется от 3. 01 до 3. 34 эВ в случае сапфировых подложек и от 2. 95 до 3. 42 эВ на кварцевых подложках с увеличением давления кислорода в процессе роста и слабо зависит от типа подложки. Впервые создана тонкопленочная электрохромная ячейка с жидким электролитом на основе полученной при комнатной температуре пленки WO[3]. Пропускание ячейки в диапазоне спектра от 300 до 900 нм уменьшается на 30% при напряжении 2. 5 В за время окрашивания порядка 2 мин. |
| Название источника | Неорганические материалы |
| Место и дата издания | 2020 |
| Прочая информация | Т. 56, № 4. - С. 402-407 |
|
https://sciencejournals.ru/list-issues/neorgmat/ https://www.elibrary.ru/item.asp?id=42650792 |
