Поиск

Исследование мемристорного эффекта в нанокристаллических пленках ZnO

Авторы: Смирнов, В. А. Томинов, Р. В. Авилов, В. И. Алябьева, Н. И. Вакулов, З. Е. Замбург, Е. Г. Хахулин, Д. А. Агеев, О. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/694179249
Дата корректировки 11:39:50 30 декабря 2021 г.
10.21883/FTP.2019.01.46991.8941
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Смирнов, В. А.
Исследование мемристорного эффекта в нанокристаллических пленках ZnO
Электронный ресурс
Investigation of memristor effect in nanocrystalline ZnO films
Иллюстрации/ тип воспроизводства цв. ил., табл.
Библиография Библиогр.: 18 назв.
Аннотация Представлены результаты экспериментальных исследований мемристорного эффекта и влияния режимов отжига на электрофизические свойства нанокристаллических пленок оксида цинка, полученных методом импульсного лазерного осаждения. Показана возможность получения нанокристаллических пленок оксида цинка методом импульсного лазерного осаждения в широком диапазоне электрических (удельное сопротивление от 1.44 · 10{-5} до 8.06 · 10{-1} Ом · см) и морфологических (шероховатость от 0.43 ± 0.32 до 6.36 ± 0.38 нм) параметров, за счет использования послеростового отжига в атмосфере кислорода (давление 10{-1} и10 {-3} Торр, температура 300 и 800 °C, длительность от 1 до 10 ч). Показано, что нанокристаллическая пленка оксида цинка толщиной 58 ± 2 нм проявляет стабильный мемристорный эффект, слабозависящий от ее морфологии - приложение напряжения -2.5 и +4В приводит к переключению между состояниями с сопротивлением 3.3 ± 1.1 · 10{9} и 8.1 ± 3.4 · 10{7} Ом соответственно. Полученные результаты могут быть использованы при разработке конструкций и технологических процессов изготовления элементов резистивной памяти на основе мемристорного эффекта, а также приборов опто-, микро-, наноэлектроники и наносистемной техники.
Ключевые слова нанокристаллические пленки ZnO
оксид цинка
импульсное лазерное осаждение
мемристорные эффекты
тонкие оксидные пленки
молекулярно-лучевая эпитаксия
магнетронное распыление
Томинов, Р. В.
Авилов, В. И.
Алябьева, Н. И.
Вакулов, З. Е.
Замбург, Е. Г.
Хахулин, Д. А.
Агеев, О. А.
Физика и техника полупроводников
2019
Т. 53, вып. 1. - С. 77-82
Имя макрообъекта Смирнов_исследование
Тип документа b