Поиск

nBn-фотодиод на основе InAsSb/AlAsSb-твердых растворов с длинноволновой границей 5мкм

Авторы: Куликов, В. Б. Маслов, Д. В. Сабиров, А. Р. Солодков, А. А. Дудин, А. Л. Кацавец, Н. И. Коган, И. В. Шуков, И. В. Чалый, В. П.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/691080584
Дата корректировки 14:57:44 24 ноября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.13.46879.8864
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Куликов, В. Б.
nBn-фотодиод на основе InAsSb/AlAsSb-твердых растворов с длинноволновой границей 5мкм
Электронный ресурс
nBn photodiode based on InAsSb/AlAsSb alloys with responsivity cutoff wavelength near 5mkm
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 8 назв.
Аннотация Представлены результаты исследований фотоэлектрических характеристик nBn-структуры, обеспечивающей возможность создавать на ее основе фотодиоды с длинноволновой границей чувствительности, достигающей 5 мкм. Расчеты, сделанные на основе полученных результатов, показывают, что указанные фотодиоды сравнимы по пороговой фоточувствительности с традиционными аналогами. На основе полученных экспериментальных результатов и теоретических оценок предложена модель зонной диаграммы nBn-структуры, позволяющая оценить влияние потенциальных барьеров в валентной зоне широкозонного слоя и на его границах с узкозонными слоями на чувствительность nBn-фотодиодов. При построении модели важное значение имели результаты, полученные при экспериментальном исследовании зависимости термической энергии активации фототока от напряжения смещения фотодиода.
Ключевые слова nBn-фотодиоды
фотодиоды
твердые растворы
эпитаксиальное выращивание
МОС-гидридная эпитаксия
молекулярно-лучевая эпитаксия
антимониды
Маслов, Д. В.
Сабиров, А. Р.
Солодков, А. А.
Дудин, А. Л.
Кацавец, Н. И.
Коган, И. В.
Шуков, И. В.
Чалый, В. П.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 13. - С. 1636-1640
Имя макрообъекта Куликов_nBn
Тип документа b