Поиск

Эффект инжекционного обеднения в p-Si-n-(Si[2])[1-x](ZnSe)[x] (0 <= x <= 0.01) гетероструктуре

Авторы: Саидов, А. С. Лейдерман, А. Ю. Усмонов, Ш. Н. Амонов, К. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/689784952
Дата корректировки 15:01:04 9 ноября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.09.46154.8706
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Саидов, А. С.
Эффект инжекционного обеднения в p-Si-n-(Si[2])[1-x](ZnSe)[x] (0 <= x <= 0.01) гетероструктуре
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 15 назв.
Аннотация Исследованы вольт-амперные характеристики гетероструктур p-Si-n-(Si[2])[1-x] (ZnSe)[x] (0 <= x <= 0.01) при различных температурах. Обнаружено, что вольт-амперные характеристики таких структур имеют участок сублинейного роста тока с напряжением типа V = V[0] exp(Jad). Оценены концентрации глубоких примесей, ответственных за появление сублинейного участка вольт-амперной характеристики. Экспериментальные результаты объясняются на основе теории эффекта инжекционного обеднения.
Ключевые слова инжекционное обеднение
эффект инжекционного обеднения
гетероструктуры
полупроводники
жидкофазная эпитаксия
эпитаксиальные пленки
Лейдерман, А. Ю.
Усмонов, Ш. Н.
Амонов, К. А.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 9. - С. 1066-1070
Имя макрообъекта Саидов_эффект
Тип документа b