Поиск

Электронное строение и фазовый состав диэлектрических прослоек в многослойной аморфной наноструктуре [(CoFeB)[60]C[40]/SiO[2]][200]

Авторы: Домашевская, Э. П. Буйлов, Н. С. Терехов, В. А. Барков, К. А. Ситников, В. Г.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/687450994
Дата корректировки 14:48:53 13 октября 2021 г.
10.21883/FTT.2017.01.43968.205
Служба первич. каталог. Войтик
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 539.21
Домашевская, Э. П.
Электронное строение и фазовый состав диэлектрических прослоек в многослойной аморфной наноструктуре [(CoFeB)[60]C[40]/SiO[2]][200]
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 18 назв.
Аннотация Многослойная аморфная наноструктура [(CoFeB)[60]C[40]/SiO[2]][200] из чередующихся композитных и диэлектрических слоев была получена ионно-лучевым распылением на вращающуюся ситалловую подложку из двух мишеней, одна из которых представляла собой металлическую пластину сплава Co[40]Fe[40]B[20] со вставками графита. Диэлектрические прослойки напылялись из пластины кварца SiO[2] (вторая мишень). Толщины бислоев многослойной наноструктуры (МНС) (6 nm), состоящие из металлосодержащих композитных слоев с углеродом (CoFeB)[60]C[40] толщиной около 4 nm и диэлектрических прослоек оксидов кремния толщиной около 2 nm, определялись методом малоугловой дифракции. Результаты экспериментального послойного исследования без разрушения МНС методом ультрамягкой рентгеновской спектроскопии (УМРЭС) показали существенное отклонение стехиометрического состава диэлектрических прослоек от стехиометрии распыляемого кварца в сторону уменьшения содержания кислорода с образованием субоксида SiO[1,3]. По результатам моделирования Si L[2,3]-спектров с помощью эталонных спектров известных фаз содержание субоксидной фазы кремния в аморфных диэлектрических прослойках достигает около половины состава прослойки, вторая половина которого приходится на диоксид SiO[2]. "Экранирующее" действие углерода в металлосодержащих слоях проявляется в отсутствии силицидообразования на интерфейсах исследуемой многослойной структуры и должно способствовать увеличению анизотропии их электромагнитных свойств.
Ключевые слова наноструктуры
многослойные наноструктуры
диэлектрические прослойки
электронное строение
фазовый состав
Другие авторы Буйлов, Н. С.
Терехов, В. А.
Барков, К. А.
Ситников, В. Г.
Название источника Физика твердого тела
Место и дата издания 2017
Прочая информация Т. 59, вып. 1. - С. 161-166
Имя макрообъекта Домашевская_электронное
Тип документа b