Маркер записи | n |
Контрольный номер | RU/IS/BASE/682608689 |
Дата корректировки | 13:31:29 18 августа 2021 г. |
10.21883/OS.2020.01.48852.253-19 | |
Служба первич. каталог. | Феллер |
Код языка каталог. | rus |
Правила каталог. | PSBO |
Код языка издания | rus |
Индекс УДК | 535.33 |
Ивлев, Г. Д. | |
Наносекундное воздействие интенсивного лазерного излучения на тонкие плёнки TiAlN Электронный ресурс |
|
Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил. |
Библиография | Библиогр.: 17 назв. |
Аннотация | Измерены спектральные зависимости коэффициентов пропускания и отражательной способности R тонких плёнок бинарного нитрида TiAlN, осаждённых методом магнетронного распыления мишени на стеклянные подложки и на пластины Si. Плёнки TiAlN/Si подвергались воздействию одиночных наносекундных (70 ns) импульсов излучения рубинового лазера с целью исследования влияния лазерно-индуцированных в TiAlN теплофизических процессов на динамику R(t) на длинах волн зондирующего излучения и на состояние зон лазерного облучения, которое изучалось методами оптической и растровой электронной микроскопии. Наблюдаемое в эксперименте усиливается по мере повышения плотности энергии облучения W с приближением к порогу лазерной абляции нитрида. Лазерно-индуцированные теплофизические процессы, происходящие при W = 0.6.0.9 J/cm{2}, приводят к специфической модификации слоя TiAlN с образованием сетки трещин из-за возникающих во время действия лазерного импульса термических напряжений. Повышение W приводит к образованию более развитой сетчатой/ячеистой структуры плёнки, характеризующейся меньшим средним размером ячеек. |
тонкие пленки лазерное излучение бинарный нитрид лазерное облучение пленки тонкие |
|
Зайков, В. А. Климович, И. М. Комаров, Ф. Ф. Людчик, О. Р. |
|
Оптика и спектроскопия 2020 Т. 128, вып. 1. - С. 144-150 |
|
Имя макрообъекта | Ивлев_наносекундное |
Тип документа | b |