| Маркер записи | n |
| Контрольный номер | RU/IS/BASE/679659780 |
| Дата корректировки | 10:32:35 15 июля 2021 г. |
| 10.21883/FTP.2017.04.44340.8393 | |
| Служба первич. каталог. | Шавель |
| Код языка каталог. | rus |
| Правила каталог. | PSBO |
| Код языка издания | rus |
| Индекс УДК | 621.315.592 |
| Улин, В. П. | |
|
Анодные процессы в условиях химического и электрохимического травления кристаллов кремния в кислых фторидных растворах. Механизм порообразования Электронный ресурс |
|
| Anodic processes on Si crystals under chemical and electrochemical etching in acid fluorine solutions. Mechanism of pores formation | |
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил. |
| Библиография | Библиогр.: 26 назв. |
| Аннотация | В работе изучено взаимодействие с плавиковой кислотой сильно легированных кристаллов кремния p- и n-типа проводимости, протекающее без освещения, в отсутствие и при наличии их контакта с металлами, существенно различающимися величиной работы выхода электронов (Ag и Pd). Определены зависимости от типа и уровня легирования кристаллов скорости растворения кремния в плавиковой кислоте, содержащей окислители c различными значениями редокс-потенциалов (FeCl[3], V[2]O[5], CrO[3]). Анализ экспериментальных данных позволяет сделать вывод о том, что дырки валентной зоны не являются непосредственными участниками анодных реакций окисления и растворения кремния, а их генерация в кристалле не лимитирует скорость этих процессов. Показано также, что тип химического процесса, приводящего к растворению кремния в HF-содержащих электролитах, и скорости его протекания определяются величиной скачка потенциала, устанавливающегося на межфазной границе полупроводник-электролит. Предложена модель механизма электрохимического порообразования в кристаллах кремния, основанная на представлении о самосогласованных кооперативных реакциях нуклеофильного замещения между хемосорбированными анионами фтора и координационно-насыщенными атомами в приповерхностном слое кристалла. Рассмотрены термодинамические аспекты зародышеобразования пор и влияние на размер и структуру пор величины падения потенциала на межфазной границе, типа проводимости и концентрации свободных носителей заряда в кристалле. Развитые в работе представления позволяют предложить непротиворечивое объяснение экспериментальным фактам, характеризующим процессы травления кремния с различными электрофизическими параметрами в различных условиях, обеспечивающих анодную поляризацию кристаллов в HF-содержащих растворах. |
| Ключевые слова | кислые фторидные растворы |
|
химическое травление электрохимическое травление анодные процессы кристаллы кремния кремний полупроводники-электролиты электрохимическое порообразование |
|
|
Улин, Н. В. Солдатенков, Ф. Ю. |
|
|
Физика и техника полупроводников 2017 Т. 51, вып. 4. - С. 481-496 |
|
| Имя макрообъекта | Улин_анодные |
| Тип документа | b |
