Поиск

Осаждение текстурированных пленок NiFe(200) и NiFe(111) на подложки Si/SiO[2] магнетронным распылением на постоянном токе

Авторы: Джумалиев, А. С. Никулин, Ю. В. Филимонов, Ю. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/668182644
Дата корректировки 8:34:56 1 декабря 2021 г.
Служба первич. каталог. Войтик
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 539.21
Джумалиев, А. С.
Осаждение текстурированных пленок NiFe(200) и NiFe(111) на подложки Si/SiO[2] магнетронным распылением на постоянном токе
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 21 назв.
Аннотация Исследовано влияние температуры T[sub] и напряжения смещения U[bias] подложки на текстуру пленок NiFe с толщиной d ~ 30-340 nm, полученных магнетронным распылением на постоянном токе на подложках Si(111)/SiO[2] при давлении рабочего газа P ~ 0.2 Pa. Показано, что пленки, выращенные при комнатной температуре подложки, имеют текстуру (111), которая улучшается при отрицательном напряжении смещения. Осаждение пленок на заземленную (U[bias] ~ 0) подложку, нагретую до температуры T[sub] ~ 440-640 K, приводит к формированию текстурированных пленок NiFe(200).
пленки
текстурированные пленки
кремниевые подложки
магнетронное распыление
Другие авторы Никулин, Ю. В.
Филимонов, Ю. А.
Название источника Физика твердого тела
Место и дата издания 2016
Прочая информация Т. 58, вып. 5. - С. 1019-1023
Имя макрообъекта Джумалиев_осаждение
Тип документа b