| Индекс УДК | 666.22 |
|
Высокочистый оксид вольфрама (VI) для получения перспективных лазерных материалов А. В. Хомяков, Е. Н. Можевитина, М. П. Зыкова [и др.] |
|
| Аннотация | Разработан метод получения высокочистого оксида вольфрама (VI), основанный на двухстадийной сублимационной очистке. Проведен примесный анализ коммерческих препаратов оксида вольфрама (VI) методом масс-спектрометрии с индуктивно связанной плазмой. Получены кристаллы KGW, выращенные с использованием коммерческих реактивов и оксида вольфрама (VI) с химической чистотой 99, 999 % по массе. Проведен сравнительный анализ кристаллов, выращенных из различных исходных оксидов вольфрама. Показано, что разработанный высокочистый оксид вольфрама (VI) не снижает химической чистоты выращиваемых кристаллов KGW и является перспективным сырьем для технологии стеклокерамических оптических материалов на основе вольфраматов. |
| Название источника | Стекло и керамика |
| Место и дата издания | 2021 |
| Прочая информация | № 1. - С. 9-15 |
